AR-P 679는 950K 고분자량 PMMA 기반의 positive 전자빔 레지스트로, 용제로 안전 용제인 ethyl lactate를 사용합니다. 최고 수준의 해상도와 함께 작업 안전성 측면의 이점을 제공합니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Positive (PMMA) |
|---|---|
| 분자량(MW) | 950K (최고 분자량) |
| 용제(solvent) | Ethyl lactate (안전 용제, 인화점 36°C) |
| 해상도(resolution) | 최고 6 nm (679.02: 6.2 nm 갭) |
| 콘트라스트(contrast) | 7 |
| 막두께(film thickness) | 약 0.03~1.87 µm @ 4000 rpm; 예: 679.03 ≈ 165 nm |
| 내열성(thermal) | 유리전이온도 105°C / 유전상수 2.6 |
| 공정 화학 | 밀착 AR 300-80 new · 현상액 AR 600-55/600-56(IPA) · 스토퍼 AR 600-60 · 리무버 AR 600-71/AR 300-76 |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 농도(.xx)·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
고해상도 전자빔 패터닝, 2층 PMMA 리프트오프 상부층, 도금 몰드 등에 사용됩니다. 950K PMMA의 고해상도에 더해, ethyl lactate가 하부층을 녹이지 않아 다층 적층에 특히 적합한 점이 차별점입니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.