AR-P 632는 AR-P 630–670 PMMA 시리즈의 50K(저분자량) positive 전자빔 레지스트로, 안전 용제인 anisole을 사용합니다. PMMA 특유의 고해상도(최고 6 nm)와 고콘트라스트를 제공하며, 50K는 950K 대비 약 20% 높은 감도를 가져 평탄화·다층 공정에 유리합니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Positive (PMMA) |
|---|---|
| 분자량(MW) | 50K (저분자량) |
| 용제(solvent) | Anisole (안전 용제, 인화점 44°C) |
| 해상도(resolution) | 최고 6 nm (PMMA 시리즈 공통) |
| 콘트라스트(contrast) | 7 |
| 막두께(film thickness) | 약 0.02~0.31 µm @ 4000 rpm (고형분 1~12%) |
| 내열성(thermal) | 유리전이온도 105°C / 유전상수 2.6 |
| 노광 | e-beam · DUV 248 nm — 유리·실리콘·금속에 우수한 밀착 |
| 공정 화학 | 밀착 AR 300-80 new · 현상액 AR 600-55/600-56 · 스토퍼 AR 600-60 · 리무버 AR 600-71/AR 300-76 |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 농도(.xx)·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
평탄화층, 다층 리프트오프의 하부층(고감도), 전자빔 고해상도 패터닝 등에 사용됩니다. 950K 상부층과 조합하면 큰 언더컷을 형성할 수 있습니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.