AR-P 617은 MMA·메타크릴산 공중합체(copolymer, 33% MA) 기반의 고감도 positive 전자빔 레지스트입니다. PMMA 대비 감도·콘트라스트가 3~4배 높고 내열성이 우수해, 나노미터 리소그래피와 2층 리프트오프의 하부(언더컷) 층으로 널리 사용됩니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Positive (copolymer) |
|---|---|
| 베이스 폴리머 | MMA·메타크릴산 공중합체 (33% MA) |
| 용제(solvent) | 1-methoxy-2-propanol (안전 용제) |
| 해상도(resolution) | 나노미터급 고해상도 |
| 막두께(film thickness) | 예: 617.08 ≈ 500 nm @ 4000 rpm (변종 .03/.06/.08/.14) |
| 내열성(thermal) | 내열 240°C, 유리전이온도(Tg) 150°C |
| 감도 | PMMA 대비 3~4배 (고감도) |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 농도(.xx)·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
나노미터 리소그래피, 그리고 PMMA 상부층과 조합한 2층 리프트오프·전기도금(plating) 몰드의 하부 언더컷 층으로 사용됩니다. 고감도·고내열이 핵심 경쟁력입니다.
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평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.
감도가 높은 AR-P 617을 하부층, 고해상도 PMMA(950K)를 상부층으로 쓰는 2층 구조로 큰 언더컷을 형성해 리프트오프·도금에 활용합니다.