AR-P 3740은 AR-P 3700 시리즈의 고감도 positive 포토레지스트로, 고집적회로(VLSIC)용 sub-µm 패터닝에 적합합니다. broadband UV·i-line·g-line에서 작동하며, 최고 0.4 µm 해상도와 높은 콘트라스트, 그리고 복잡한 토폴로지 표면에서도 우수한 도포 특성을 제공합니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Positive |
|---|---|
| 조성 | Novolak + 나프토퀴논 다이아자이드(NQD) |
| 용제(solvent) | PGMEA (안전 용제) |
| 고형분·점도 | 고형분 29% / 점도 22 mPas @ 25°C |
| 막두께(film thickness) | 1.4 µm @ 4000 rpm |
| 해상도(resolution) | 최고 0.4 µm (sub-µm) |
| 콘트라스트(contrast) | 6.0 |
| 내열성(thermal) | 최대 120°C / 유리전이온도 108°C / 유전율 3.1 |
| 노광(exposure) | broadband UV · i-line · g-line (365·405·436 nm) |
| 인화점·보관 | 인화점 42°C / 보관 10~18°C |
| 공정 화학 | 밀착 AR 300-80 · 현상액 AR 300-47, AR 300-26 (TMAH 계열) · 씨너 AR 300-12 · 리무버 AR 300-76, AR 600-71 |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 변종·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
고집적회로(VLSIC) 제조, sub-µm 고해상도 미세 패터닝, 토폴로지가 복잡한 기판의 정밀 패터닝에 사용됩니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.
TMAH 계열 AR 300 시리즈(300-26/35/40/47) 4종을 모두 쓸 수 있습니다. 강한 현상액(AR 300-46)은 짧은 노광이 가능하고, 약한 현상액(AR 300-475)은 가장 높은 콘트라스트와 약간 더 높은 해상도를 제공합니다.