AR-P 3100은 마스크 제작·미세 격자용 밀착 강화 positive 포토레지스트 시리즈입니다. 유리·크롬 표면에 강하게 밀착해 가혹한 습식 식각 공정에서도 견디며, 포토마스크와 미세 눈금 제작에 적합합니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Positive (밀착 강화) |
|---|---|
| 조성 | Cresol novolak + NQD |
| 용제(solvent) | PGMEA |
| 변종·막두께 | AR-P 3110(28%, 1000 nm) · 3120(21%, 550 nm) · 3170(8%, 120 nm) @ 4000 rpm |
| 해상도(resolution) | 3110 0.5 µm · 3120 0.4 µm(0.38 µm L/S) · 3170 0.4 µm(레이저 간섭 70 nm) |
| 콘트라스트(contrast) | 3.0 |
| 인화점·보관 | 46°C / 10~18°C, 유리전이온도 108°C |
| 노광 | broadband UV · i-line · g-line |
| 공정 화학 | 밀착 AR 300-80 new · 현상액 AR 300-26/AR 300-47 · 씨너 AR 300-12 · 리무버 AR 300-76/AR 300-73 |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 변종·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
포토마스크 제작, 미세 눈금·격자(lattice) 구조, 가혹한 습식 식각 마스크, 레이저 간섭 리소그래피(3170) 등에 사용됩니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.