AR-N 7720은 ALLRESIST의 화학증폭형(CAR) negative 전자빔 레지스트로, 완경사 콘트라스트(flat gradation)를 갖춰 노광 선량에 따라 막두께가 연속적으로 변하는 3차원(아날로그) 레지스트 프로파일을 만들 수 있습니다. 회절광학(diffractive optics)과 홀로그램 제작에 특화된 제품입니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Negative tone (CAR, 완경사 gradation) |
|---|---|
| 베이스 폴리머 | Novolak + 산발생제(acid generator) + 가교제(저감) |
| 용제(solvent) | PGMEA (안전 용제) |
| 변종·막두께 | 7720.30(고형분 30%, 1.4 µm) · 7720.13(13%, 0.25 µm) @ 4000 rpm |
| 해상도(resolution) | 최고 80 nm |
| 콘트라스트(contrast) | < 1 (3차원 아날로그 프로파일용 저콘트라스트) |
| 내열성(thermal) | 최대 140°C / 유리전이온도 102°C / 유전율 3.1 |
| 노광(exposure) | e-beam · DUV (248~265 nm, 290~330 nm), 노광 후 가교 베이크 필수 |
| 인화점·보관 | 인화점 42°C / 냉장 8~12°C 보관, 보증 6개월 |
| 공정 화학 | 밀착 AR 300-80 new · 현상액 AR 300-47, AR 300-26 · 씨너 AR 300-12 · 리무버 AR 300-76, AR 300-72 |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 농도(.xx)·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
회절광학소자(DOE), 홀로그램, 곡면·경사 구조 등 연속적 높이 변화가 필요한 3차원 구조 제작에 사용됩니다. 고해상도 이진 패턴보다는 아날로그 프로파일 형성이 목적인 공정에 적합합니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.
대부분의 리소그래피는 높은 콘트라스트로 또렷한 이진 패턴을 얻지만, 회절광학·홀로그램은 노광 선량에 따라 막두께가 부드럽게 변해야 합니다. AR-N 7720은 산발생제와 가교제를 의도적으로 줄여 낮은 가교 효율(완경사)을 구현, 이런 3차원 구조에 최적화했습니다.