AR-N 7700은 ALLRESIST의 화학증폭형(CAR) negative 전자빔 레지스트로, 급경사 콘트라스트(steep gradation)와 우수한 감도를 갖춰 디지털 패턴 재현에 적합합니다. 전자빔과 DUV(248~265 nm, 290~330 nm)에서 negative로 작동하며, 노광 후 가교 베이크로 구조를 형성합니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Negative tone (CAR, 화학증폭형) |
|---|---|
| 베이스 폴리머 | Novolak + 산발생제(acid generator) + 가교제 |
| 용제(solvent) | PGMEA (안전 용제) |
| 변종·막두께 | 7700.18(고형분 18%, 0.4 µm) · 7700.08(8%, 0.1 µm) @ 4000 rpm |
| 해상도(resolution) | 최고 80 nm |
| 콘트라스트(contrast) | 5 (급경사 gradation) |
| 감도(sensitivity) | 30 kV 기준 약 12 µC/cm²(7700.18) — 고감도 |
| 내열성(thermal) | 최대 140°C / 유리전이온도 102°C / 유전율 3.1 |
| 노광(exposure) | e-beam · DUV (248~265 nm, 290~330 nm), 노광 후 가교 베이크 필수 |
| 인화점·보관 | 인화점 42°C / 냉장 8~12°C 보관, 보증 6개월 |
| 공정 화학 | 밀착 AR 300-80 new · 현상액 AR 300-46, AR 300-26 · 씨너 AR 300-12 · 리무버 AR 300-73, AR 300-76 |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 농도(.xx)·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
집적회로 제조, 고감도가 필요한 고해상도 negative 패터닝에 사용됩니다. CAR 특유의 고감도로 노광 시간을 줄일 수 있으나, proximity 효과는 PMMA 등 비-CAR 대비 더 두드러질 수 있어 선량 조정이 필요합니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.
둘 다 CAR negative 전자빔 레지스트이지만, AR-N 7700은 급경사(steep) 콘트라스트로 디지털 패턴(IC 제조)에, AR-N 7720은 완경사(flat) 콘트라스트로 3차원 프로파일(회절광학·홀로그램)에 적합합니다.