AR-N 4400(CAR 44)은 전기도금·MEMS·LIGA용 후막 화학증폭형 negative 포토레지스트 시리즈입니다. i-line·g-line·전자빔·broadband UV에 감응하고, 단일 코팅 최대 100 µm(다중 코팅 최대 150 µm)의 두꺼운 막을 형성하며 SU-8 대비 제거가 쉽고 수계 알칼리 현상이 가능합니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Negative (CAR 44, 화학증폭형) |
|---|---|
| 조성 | Novolak + 가교제 + 아민계 산발생제 |
| 용제(solvent) | PGMEA |
| 변종·막두께 | 4400-05(5 µm) · 4400-10(10 µm) · 4450-10T(리프트오프) · 4400-25(25 µm) · 4400-50(최대 100 µm) @ 1000 rpm |
| 해상도(resolution) | 4400-05 1.0 µm · 4400-10 2.0 µm(15 µm막에서 3 µm) · 4400-25/-50 3.5~5.0 µm |
| 콘트라스트(contrast) | 3.5(4400-05) ~ 6.0(4400-50); 4450-10T 10 |
| 감도(sensitivity) | 약 21.5 mJ/cm² @ 5 µm (H₀90, 4400-05) |
| 내열성(thermal) | 약 200°C 구조 유지(플러드 노광+베이크 시 300°C) / 유리전이온도 102°C |
| 노광 | i-line · g-line · e-beam · broadband UV |
| 공정 화학 | 밀착 AR 300-80 · 현상액 AR 300-47/AR 300-44/AR 300-46 · 씨너 AR 300-12 · 리무버 AR 600-71(고가교)·AR 300-76(저가교) |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 변종·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
후막 구조, LIGA, 전기도금 몰드, MEMS, 리프트오프 등에 사용됩니다. SU-8 대안으로 제거 용이성과 수계 알칼리 현상이 강점입니다. 변종(4400-05/-10/-25/-50)에 따라 막두께가 다릅니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.
CAR 44는 후막·고해상도·고종횡비를 SU-8과 동등 이상으로 제공하면서, 저응력 가공·수계 알칼리 현상·쉬운 제거가 가능한 점이 강점입니다(공식 비교표 기준).