AR-N 2210은 AR-N 2200 시리즈의 스프레이 코팅 전용 negative 포토레지스트입니다. positive 짝(AR-P 1210) 대비 약 3배 이상 높은 감도로, 극단적 토폴로지를 가진 웨이퍼의 스프레이 도포·리프트오프에 적합합니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
| 톤(tone) | Negative |
|---|---|
| 조성 | Cresol novolak + NQD |
| 용제(solvent) | PGMEA + 메틸에틸케톤(MEK) |
| 변종·막두께 | AR-N 2210(4~10 µm, 예 5 µm) · 2220(3~8 µm, 54° 경사) · 2230(0.5~1 µm, 평탄) |
| 해상도(resolution) | 1.0 µm (최소 1.4 µm @ 5 µm) |
| 콘트라스트(contrast) | 3.0 |
| 감도(sensitivity) | 약 50 mJ/cm² @ 4.5 µm (positive 대비 고감도) |
| 노광·내열 | broadband UV·i-line·g-line / 유리전이온도 108°C |
| 공정 화학 | 현상액 AR 300-44 · 리무버 AR 300-76, AR 300-73 (negative는 노광 후 가교 베이크 필수) |
사양은 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준의 대표값이며, 변종·공정 조건에 따라 달라질 수 있습니다. 정확한 데이터시트와 SDS는 JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
극단적 토폴로지 웨이퍼의 스프레이 도포, MEMS, 스프레이 리프트오프 등에 사용됩니다. 고감도로 노광 시간을 단축할 수 있습니다.
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.
AR-N 2210은 negative 톤이며 감도가 약 3배 이상 높아(≈50 vs 170 mJ/cm²) 노광 시간이 짧고, 리프트오프에 유리합니다. 단, negative이므로 노광 후 가교 베이크가 필요합니다.