AR 600-71은 ALLRESIST의 efficient all-rounder 리무버로, 고온에서 베이크된 photoresist·전자빔 레지스트(CSAR 62 최대 약 200°C 등)를 효과적으로 제거합니다. ZEON ZDMAC(용제: DMAC) 또는 NEP 기반 리무버의 생식독성 우려를 피하려는 공정에 적합합니다. JPDREAM은 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다.
정확한 적용 조건·온도 범위는 ALLRESIST 공식 데이터시트 기준이며, JPDREAM에 요청하시면 제공해 드립니다.
ZEON ZDMAC는 용제가 디메틸아세트아미드(DMAC)로, 생식독성 물질(EU REACH SVHC)로 분류됩니다. NEP 기반 리무버 역시 생식독성 우려가 있습니다. AR 600-71은 이러한 물질을 회피하면서 ZEP·CSAR 등 레지스트를 제거할 수 있는 더 안전한 대체입니다. 현재 사용 중이신 리무버와 공정을 알려주시면 적합 여부를 함께 검토해 드립니다.
이 제품의 상세 제품 정보·SDS는 요청 시 제공해 드립니다. 제품 정보 요청 ✉
JPDREAM이 ALLRESIST 공식 한국 대리점으로서 국내에 공급합니다. 아래로 문의하시면 견적·납기를 안내해 드립니다.
네. CSAR 62 등 ZEP 계열 레지스트와 고온 베이크된 photoresist 제거에 사용됩니다. 공정 조건은 함께 검토해 드립니다.
ZDMAC의 용제 DMAC는 생식독성 물질(EU SVHC)입니다. AR 600-71은 DMAC·NEP를 회피한 구성으로, 안전성 측면의 대체로 적합합니다.
평균 발주 후 2~3주 이내입니다. 일반적으로 재고를 보유하지 않고 주문 공급합니다.
네, JPDREAM에 요청하시면 ALLRESIST 공식 데이터시트와 SDS를 제공해 드립니다.